GB/T 26066-2010 硅晶片上浅腐蚀坑检测的测试方法
作者:标准资料网 时间:2024-05-23 12:55:12 浏览:8045
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基本信息
| 标准名称： | 硅晶片上浅腐蚀坑检测的测试方法 |
| 英文名称： | Practice for shallow etch pit detection on silicon |
| 中标分类： | 冶金 >> 半金属与半导体材料 >> 半金属与半导体材料综合 |
| ICS分类： | 电气工程 >> 半导体材料 |
| 发布部门： | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： | 2011-01-10 |
| 实施日期： | 2011-10-01 |
| 首发日期： | 2011-01-10 |
| 作废日期： | |
| 主管部门： | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 归口单位： | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2) |
| 起草单位： | 洛阳单晶硅有限责任公司 |
| 起草人： | 田素霞、张静雯、王文卫、周涛 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 2011-10-01 |
| 页数： | 8页 |
| 书号： | 155066·1-42668 |
适用范围
本标准规定了用热氧化和化学择优腐蚀技术检验抛光片或外延片表面因沾污造成的浅腐蚀坑的检测方法。
本标准适用于检测<111>或<100>晶向的p型或n型抛光片或外延片,电阻率大于0.001Ω·cm。
前言
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目录
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引用标准
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GB/T14264 半导体材料术语
所属分类： 冶金 半金属与半导体材料 半金属与半导体材料综合 电气工程 半导体材料
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